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  • 细胞/脑片/组织片灌流记录浴槽系列

    脑片/组织片灌流记录浴槽(BSC1, BSC2, BSC3

    显微镜载物台灌流记录浴槽(MS1, MS2, MS3, MS4, MS5)

    组织灌流记录浴槽 (TCKG)

    脑片/组织片孵育槽 (BSK1, BSK2, BSK4, BSK5, BSK6-6, BSK12, BSK-AM)

  • 温度控制系统

    恒温温度控制仪 (PTC03)

    恒温温度控制仪 (PTC04)

    帕尔贴热电控制仪 (PC01)

    迷你加热模块 (MH02)

    迷你加热/冷却模块 (MC01)

  • 灌流给药系统

    重力自动灌流给药系统(PS1)

    压力自动灌流给药系统(PS1A)

  • 膜片钳放大器系统

    微型膜片钳放大器(PICO 2)

     

      
 名称  脑片/组织片灌流记录浴槽
 型号  BSC2
 图片    
 详细介紹

特点

  • 半浸式浴槽
  • 双通道灌注液
  • 使用整个表面多个切片或模板
  • 单或双槽模板,或根据要求提供其他的设计
  • 单槽模板提供温度探头和地线
  • 温度控制器PTC03提供低噪声加热

    类似于BSC1,槽室较低的部分是温度控制和充氧装置。预充氧的营养液由两个单独的管道进入室的主体,这槽室下部螺旋状通过热蒸馏水得到加温,并进入槽的上部,在此过程中任何泡沫都被破裂以允许灌注液顺利流向脑片。模板设计允许单槽或两个独立的槽并行使用,也可根据要求提供其他的设计。硅脂将该模板与基底部粘合,使底部密封。典型单槽的死空间体积约200 UL,在双槽版本中每个槽的死空间体积约100ul。聚乙烯管道携带灌注液的体积约400ul。在出口处加用镜头纸灯芯对灌注液的流速调整很有帮助。与所有的半浸式浴槽一样,由加热的95%氧气,5%二氧化碳的混合气体保持高氧张力。这湿润,温暖混合气体进入上部通过小孔,然后向位于槽室中心的脑片偏转。混合气体和灌流液的输入共同确保脑片部位所需的温度。PTC03温度控制器提供低噪音的加热。在必要时由可选的监视传感器进行温度检查。

    bsc1a

 使用方法  BSC2使用说明书
 

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